아스플로가 삼성전자와 SK하이닉스의 대규모 파운드리 증설에 따른 성장이 기대된다는 분석이 제기됐다.

아스플로는 그간 일본서 전량 수입 의존상품인 반도체 공정 소재를 국내 최초로 국산화에 성공시킨 업체다. 특히 반도체 가스공정부품 기업 중엔 유일하게 삼성전자와 하이닉스에 납품 중이다.

이동현 리서치알음 연구원은 “동사는 전량 일본 수입에 의존하던 반도체 공정 가스 공급에 사용되는 고청정 튜브, 파이프, 밸브, 레귤레이터 등을 국산화 해 반도체, 디스플레이 생산장비업체에 공급하고 있다“며 ”주 고객사인 삼성전자와 SK 하이닉스의 팹(Fab 또는 Foundry, 반도체 산업에서 외부업체가 설계한 제품을 위탁받아 생산하는 업체) 증설 규모 에 따라 매출이 영향 받기 때문에 삼성전자(평택 P3 부지 증설 중, 투자규모 50조원)와 하이닉스(이천, 청주 팹 투자규모 230조원)의 대규모 파운드리 증설은 수혜로 미칠 것“이라고 밝혔다.

그러면서 “반도체 가스 공정 부품은 시장 기술 진입장벽이 높고 공급사 자체 품질인증이 필요해 후발 기업 유입 어려워 아스플로의 경쟁력이 높아 관심 둘 만 하다”고 덧붙였다.

특히 가스 공정 파이프의 경우 독자적인 EP 기술(ElectroPolished Pipe,전 해연마 파이프)을 개발해 불순물이 섞이지 않은 초고순도 파이프를 생산할 수 있어 경쟁력을 확보했다는 게 리서치알음의 판단이다.

이 연구원은 “동사는 200A급 반도체용 초고순도 가스 파이프 제품을 대상으로 삼성전자의 양산 퀄 테스트를 진행중”이라며 “12월 중으로 퀄 테스트를 통과하면 삼성전자의 극자외선(EUV) 공정을 담당하는 평택 P2 라인 공장으로 공급되는 계약이 체결될 전망이다”고 언급했다.

매출액 규모가 크진 않지만 소구경에 국한된 포트폴리오를 다변화하고 해당 제품에 독자적인 점유율을 보유하던 미국 V사의 수요를 일부 가지고 올 수 있다는 점에 의의가 있다는 평가다.

이 연구원은 “주 고객사에서 FAB 건설계획을 세우는 경우 파이프와 튜브 배관 투자 계획을 포함하므로 주 고객사의 CAPA 확대에 따른 향후 수주 증가가 예상된다”며 “여기에 글로벌 반도체 및 디스플레이 장비 업체 수주 계약도 긍정적 진행 돼 글로벌 팹 투자로 수혜가 임박했다”고 말했다.